Ana María Guiulfo: detalle que marcó la diferencia en su colección del LIF Week

Hace unos días, Lima fue el escenario del LIF Week otoño-invierno 2017 y entre las propuestas de los diseñadores nacionales destacó la de Ana María Guiulfo quien llenó la pasarela de color, energía y glamour.

Ana María Guiulfo: detalle que marcó la diferencia en su colección del LIF Week

En esta oportunidad, la experta en moda presentó su colección cápsula “Too Much Information for Epson”, la cual se caracteriza por ser divertida y fácil de adecuar a cualquier figura.

En total fueron diez piezas (vestidos, pantalones, sacos, blusas, faldas y shorts, con una predominante influencia de colores andinos) que cautivaron a los asistentes al LIF Week otoño-invierno 2017.

Sin embargo, un detalle se robó la atención de todos pues esta propuesta fue trabajada por Ana María Guiulfo recurriendo a la técnica de sublimación textil que consiste en estampar diseños a color sobre el tejido con ayuda de una impresora especial. Es así que la diseñadora se convirtió en la pionera en trabajarla en el Perú.

La colección se diseñó y confeccionó en impresoras Surecolor Serie F de Epson, lo cual brindó una representación visual del impacto que tiene la tecnología de impresión digital en la moda y en la industria textil.

Durante el último día de LIF Week, la diseñadora presentó Nasca, inspirada en la exposición que el MALI inauguró este año sobre la mencionada cultura prehispánica. A diferencia de “Too much information” for Epson, los colores de esta propuesta hacen alusión al desierto, las dunas, y el color de las puestas de sol de Nasca.

Colección cruzará fronteras

En la edición Otoño-Invierno 2017 del LIF Week, Ana María Giulfo logró ganar el premio Epson, reconocimiento que se convirtió en su boleto de ingreso a la edición febrero del New York Fashion Week en 2018.

“Como gané el premio Epson, junto a ellos debía crear una colección para la Semana de la Moda de Nueva York y otra para el LIF Week. Aunque, como los organizadores de la primera todavía no han dicho el concepto, lo más probable es que presente ¡Too Much Information!, la cual está basada en Perú y se presentará en la próxima Semana de la Moda”, precisó la diseñadora hace unas semanas en conversación con perú.com.

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